システムの内部
露光装置・フォトリソグラフィ
極端紫外線（13.5 nm）多層膜ミラー、液浸屈折、フォトレジスト化学、および位相シフトレチクル。
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力の流れと設計上の選択を説明し、根拠と仮定を区別します。
私たちの視点
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